Halogenfreie flammhemmende Beschichtung für Gewebe und Vliesstoffe im ALD-Verfahren
Beschichtungsmerkmale der Atomlagenabscheidung (ALD):
Oxid-Passivierung als Diffusionsbarriere
Hohe Uniformität und Konformität bei 3D-Geometrien
Transparente ultradünne Schichten (< 10 nm)
Niedertemperatur-Prozessfenster (< 70 °C)